Characterization of Graphene using XPS and REELS

本文探討了通過(guò)XPS和反射電子能量損失譜（REELS）的結(jié)合，以提供石墨烯樣品的化學(xué)和結(jié)構(gòu)特性，包括樣品的厚度。PHI XPS的反射電子能量損失譜（REELS）可以進(jìn)一步確認(rèn)石墨烯已成功制備在Si基底上。而且REELS譜峰的位置和強(qiáng)度與石墨烯薄膜的厚度成正比，這開(kāi)啟了基于能量損失光譜開(kāi)發(fā)石墨烯厚度定量校準(zhǔn)曲線的潛力。使用 PHI 的 StrataPHI 薄膜結(jié)構(gòu)算法可以計(jì)算樣品的石墨烯層的厚度，以及它上面的外來(lái)污染碳。 

Li, C., Xu, YT., Zhao, B. et al. Flexible graphene electrothermal films made from electrochemically exfoliated graphite. J Mater Sci 51, 1043–1051 (2016). https://doi.org/10.1007/s10853-015-9434-x

本文主要報(bào)道了一種通過(guò)在鎢酸鈉水鹽電解質(zhì)中對(duì)石墨進(jìn)行電化學(xué)剝離來(lái)制備石墨烯納米片，然后通過(guò)在PET襯底上轉(zhuǎn)移石墨烯納米片獲得電熱薄膜。XPS用于研究石墨烯在H2 5%-Ar氣流中150℃退火前后（熱處理）的情況，。石墨烯納米片的C1s XPS光譜表明，通過(guò)電化學(xué)剝離獲得的石墨烯納米片氧化程度較低。石墨烯納米片在退火前后的官能團(tuán)未發(fā)生明顯變化，但是退火后C-O/C=O/O-C=O的譜峰強(qiáng)度降低，說(shuō)明在退火過(guò)程中，石墨烯納米片發(fā)生了有效還原。